اعلی معیار کے مواد میں سے ایک نکل ورق

لیزر کیمیکل وانپ ڈپوزیشن (ایل سی وی ڈی) کے ذریعہ اعلی معیار کے گرافین کو لیزر کیمیکل وانپ ڈپوزیشن (ایل سی وی ڈی) نے براہ راست 15 ملی میٹر کے اسپاٹ قطر اور ایک پولی کرسٹل لائن پر 70W\/سینٹی میٹر 2 کی بجلی کی کثافت کے ساتھ براہ راست لیزر کو تیار کرکے تیار کیا تھا۔نکل ورق. گرافین پرتوں کی تعداد اور معیار پر جمع وقت ، لیزر پاور ، کولنگ ریٹ ، اور میتھین بہاؤ کے اثرات کا مطالعہ کیا گیا۔ نتائج سے پتہ چلتا ہے کہ جب لیزر پاور 67 ڈبلیو\/سینٹی میٹر ~ 2 سے کم ہے تو ، کوئی گرافین تیار نہیں ہوتا ہے۔ جب جمع کرنے کا وقت 7 منٹ ہوتا ہے تو ، گرافین کی پرتیں 3-6 تیار کی جاسکتی ہیں ، اور جمع ہونے کے وقت میں کمی کے ساتھ گرافین پرتوں کی تعداد کم ہوجاتی ہے۔ جیسے جیسے میتھین بہاؤ میں اضافہ ہوتا ہے ، گرافین پرتوں کی تعداد بڑھ جاتی ہے۔ ٹھنڈک کی شرح میں کمی کے ساتھ ہی گرافین کا بڑے پیمانے پر اضافہ ہوتا ہے۔

1.نینو سائز کے نکل ہائیڈرو آکسائیڈ میں تیز رفتار ایکٹیویشن کی گنجائش ہے ، COOOH- لیپت NI (OH) 2 میں خارج ہونے والے مادہ کی گنجائش زیادہ ہے ، اور مناسب تناسب کے ساتھ نانوکمپوزائٹ نکل الیکٹروڈ میں بہتر الیکٹرو کیمیکل کارکردگی ہے۔ نکل ہائیڈرو آکسائیڈ کی سطح پر COOH کی کوٹنگ نکل الیکٹروڈس کی چارج خارج ہونے والی کارکردگی کو بہتر بنا سکتی ہے۔ کوبالٹ چڑھانانکل ورقالیکٹروڈ کے عمل کی چارج ٹرانسفر مزاحمت کو بہت کم کرسکتا ہے۔ جب کوبالٹ کا مواد 3 ٪ سے زیادہ ہوتا ہے ، حالانکہ ایکٹیویشن کی شرح کم ہوتی ہے ، تو نکل الیکٹروڈ فعال مواد کی استعمال کی شرح زیادہ ہوتی ہے اور جب کوبالٹ کا مواد 3 ٪ سے زیادہ ہوتا ہے تو خارج ہونے والے مادہ کی گنجائش زیادہ ہوتی ہے۔ جب نانوسکل نی (OH) 2 مواد 30 than سے زیادہ ہوتا ہے تو ، نکل الیکٹروڈ کی ایکٹیویشن کی رفتار نہ صرف تیز کرنے میں ناکام ہوجاتی ہے ، بلکہ قدرے سست ہوجاتی ہے ، اور صلاحیت بھی کم ہوجاتی ہے۔

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: اعلی معیار کے مواد میں سے ایک نکل ورق ، چین اعلی معیار کے مواد میں سے ایک نکل ورق مینوفیکچررز ، سپلائرز ، فیکٹری